曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光不足,导致单体聚合不,那么在显影过程中,会使的胶膜变软,线条不清晰,色泽暗淡,脱胶。曝光过度,会造成难显影,留有残胶。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。高精度紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射,
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点。
光刻显影曝光系统用于背接触太阳电池背面指交叉图案的制备。包含涂胶匀胶、烘烤、单面曝光和显影等功能单元的整套光刻显影曝光系统在了解曝光显影在蚀刻加工中的作用前,我们要先了解一下什么是曝光显影。简单来说曝光显影是蚀刻加工中确定需要被腐蚀和不被腐蚀部分的工艺,准确的曝光显影才能保证产品的精度。显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。曝光后,聚合反应还要持续一段时间,为保证工艺的稳定性,曝光后不要立即揭去聚酯膜,以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。原文链接:http://www.ximin.net/chanpin/2416.html,转载和复制请保留此链接。
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